欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(3)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

冶金提纯多晶硅用坩埚内壁氮化硅涂层的制备

刘美 , 谭毅 , 许富民 , 李佳艳 , 闻立时 , 张磊

机械工程材料

选用四种溶液与不同含量的氮化硅粉体混合得到不同的悬浊液,在石英坩埚内壁制备了氮化硅涂层,并将其用于冶金法提纯多晶硅;用扫描电镜、电子探针等分析了多晶硅铸锭与坩埚内壁的粘连面积、铸锭表面微裂纹形貌和反应层厚度,得到与最佳多晶硅铸锭脱模相对应的制备涂层的工艺参数,同时分析了熔炼过程中氮化硅涂层与硅熔体间的反应机制。结果表明:将含质量分数为8%聚乙烯吡咯烷酮的乙醇溶液和质量分数为60%氮化硅的悬浊液喷涂到坩埚内壁上,并经210℃×15min烧结后的氮化硅涂层不易分解,坩埚内壁保持完整,铸锭的脱模效果最好;随熔炼温度升高氮化硅涂层分解加剧,在涂层与硅铸锭的接触面处形成了由大颗粒氮化硅组成的连续层,减小了坩埚和涂层中杂质向硅铸锭内部扩散的可能性。

关键词: 太阳能电池 , 多晶硅 , 氮化硅涂层 , 坩埚

石英坩埚表面涂层对铸造多晶硅生长中杂质传输的影响

季尚司 , 左然 , 苏文佳 , 韩江山

人工晶体学报

铸锭中过高的杂质浓度是影响铸造多晶硅太阳电池效率的主要因素之一.本文通过数值模拟的手段研究了不同的表面涂层厚度和涂层渗透率对生长过程中O,C杂质的影响,研究表明涂层厚度能够很明显的降低晶体中O,C的含量.同时涂层的渗透系数越小,O,C杂质在晶体中的分布含量越低.

关键词: 铸造多晶硅 , 杂质传输 , Si3N4涂层 , 数值模拟

不同Si3N4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征

李永乐 , 黄金亮 , 李飞龙 , 李谦 , 李丽华

机械工程材料 doi:10.11973/jxgccl201705012

以α-Si3N4和β-Si3N4粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了α-Si3N4涂层、β-Si3N4涂层以及二者质量比为1∶1的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度.结果表明:α-Si3N4涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,红区最长;β-Si3N4涂层表面较平整且起伏均匀,对应硅锭的表面粗糙度最小,晶粒尺寸较小,红区最短;复合涂层的表面粗糙度介于上述二者之间,对应硅锭的晶粒尺寸最小,红区长度介于二者之间.

关键词: 表面粗糙度 , Si3N4涂层 , 红区长度 , 晶粒尺寸

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词